Muegge Produkte

Plasma-Systeme

Plasma-Systeme
  • Decapsulation-Tool

    Artikelnr.: MA1250D-114BB

    Type of tool
    R&D / Pilot Production Tool
    Line Voltage [V]
    480
    Process gas 1
    O2
    Process gas 2
    CF4
    Process gas 3
    N2
    Process gas 4
    -
    Process gas 5
    -
    Process gas 6
    -
    Product Temperature sensors
    -
    Chamber size [mm (inch)]
    245 x 245 (9.65 x 9.65)
  • Decapsulation-Tool

    Artikelnr.: MA3000D-211BB

    Type of tool
    High Volume Production Tool
    Line Voltage [V]
    400
    Process gas 1
    O2
    Process gas 2
    O2
    Process gas 3
    N2
    Process gas 4
    CF4
    Process gas 5
    SF6
    Process gas 6
    Ar
    Product Temperature sensors
    -
    Chamber size [mm (inch)]
    320 x 320 (12.60 x 12.60)
  • Decapsulation-Tool

    Artikelnr.: MA3000D-241BB

    Type of tool
    High Volume Production Tool
    Line Voltage [V]
    400
    Process gas 1
    O2
    Process gas 2
    O2
    Process gas 3
    CF4
    Process gas 4
    N2H2
    Process gas 5
    SF6
    Process gas 6
    N2
    Product Temperature sensors
    -
    Chamber size [mm (inch)]
    320 x 320 (12.60 x 12.60)
  • Decapsulation-Tool

    Artikelnr.: MA3000D-281BB

    Type of tool
    High Volume Production Tool
    Line Voltage [V]
    400
    Process gas 1
    O2
    Process gas 2
    N2H2
    Process gas 3
    CF4
    Process gas 4
    N2
    Process gas 5
    -
    Process gas 6
    -
    Product Temperature sensors
    -
    Chamber size [mm (inch)]
    320 x 320 (12.60 x 12.60)
  • Decapsulation-Tool

    Artikelnr.: MA3000D-311BB

    Type of tool
    High Volume Production Tool
    Line Voltage [V]
    400
    Process gas 1
    O2
    Process gas 2
    O2
    Process gas 3
    N2
    Process gas 4
    Ar
    Process gas 5
    CF4
    Process gas 6
    SF6
    Product Temperature sensors
    -
    Chamber size [mm (inch)]
    320 x 320 (12.60 x 12.60)
  • Stripping-Tool

    Artikelnr.: MA0000D-001BB

    Type of tool
    R&D / Pilot Production Tool
    Line Voltage [V]
    208
    Process gas 1
    O2
    Process gas 2
    N2
    Process gas 3
    N2
    Process gas 4
    -
    Process gas 5
    -
    Process gas 6
    -
    Product Temperature sensors
    2
    Chamber size [mm (inch)]
    245 x 245 (9.65 x 9.65)
  • Stripping-Tool

    Artikelnr.: MA1250D-110BB

    Type of tool
    R&D / Pilot Production Tool
    Line Voltage [V]
    208
    Process gas 1
    O2
    Process gas 2
    N2
    Process gas 3
    N2
    Process gas 4
    -
    Process gas 5
    -
    Process gas 6
    -
    Product Temperature sensors
    2
    Chamber size [mm (inch)]
    245 x 245 (9.65 x 9.65)
  • Stripping-Tool

    Artikelnr.: MA1250D-112BB

    Type of tool
    R&D / Pilot Production Tool
    Line Voltage [V]
    400
    Process gas 1
    O2
    Process gas 2
    CF4
    Process gas 3
    N2
    Process gas 4
    -
    Process gas 5
    -
    Process gas 6
    -
    Product Temperature sensors
    2
    Chamber size [mm (inch)]
    245 x 245 (9.65 x 9.65)

PLASMA-SYSTEME

Halbleiterbauelemente sind für Produkte unseres täglichen Lebens unverzichtbar geworden. Niemand möchte sich eine Zukunft ohne sie vorstellen. Die Herstellung dieser Geräte erfordert jedoch hoch entwickelte Anlagen und tiefgreifendes Prozesswissen – und mit fortschreitender Technologie steigen die Herausforderungen an Plasma und an die Steuerung von plasmaunterstützten Anwendungen.

Wir arbeiten eng mit Kunden und Forschungseinrichtungen zusammen, um den Markt zu verstehen und Ihnen optimale Mikrowellen-Lösungen zu bieten – dabei gehen wir über herkömmliche Plasmaansätze hinaus, um Produkte zu entwickeln, die Ihre Ergebnisse und Prozesse entscheidend verbessern. Unsere führende Position als Hersteller von mikrowellen-unterstützten Plasmaprodukten hilft Ihnen, mit maßgeschneiderten Anlagen schneller und kostengünstiger in den Markt einzusteigen:

  • SU-8 Entfernung
  • Hochselektive Entfernung von organischen Materialien
  • Nicht-oxidierende Chemie zur Reinigung von sauerstoffempfindlichen Materialien (H2-Prozess)
  • Reinigung von 3D-Strukturen
  • Beschädigungsfreie Reinigung von empfindlichen Oberflächen (z.B. Sensoren)
  • Isotrope Kammerreinigung
  • LIGA-Verfahren (Lithographie, Galvanik und Formgebung)